发布时间:2025-05-01 点此:1146次
IT之家 4 月 21 日音讯,2025 年超大规模集成电路研讨会(VLSI Symposium)定于 2025 年 6 月 8 日至 12 日在日本京都举办,这是半导体范畴的尖端国际会议。
VLSI 官方今天发布预览文档,扼要介绍了一系列将于 VLSI 研讨会上发布的论文,例如 Intel 18A 工艺技能细节。
相较于 Intel 3 制程, Intel 18A 节点在功能、功耗及面积(PPA)指标上均完结明显提高,将为消费级客户端产品与数据中心产品带来实质性提高。
英特尔宣称,在相同电压(1.1V)和复杂度条件下,Intel 18A 制程可为规范 Arm 中心子模块带来 25% 的功能提高;当坚持相同频率和 1.1V 电压时,功耗较 Intel 3 下降 36%。
在低压状况(0.75V)下,Intel 18A 制程可完结 18% 的功能提高并一起下降 38% 的功耗。一起,该工艺相较 Intel 3 完结了 0.72 的面积微缩。
作为英特尔首个选用全盘绕栅极(GAA)RibbonFET 晶体管与 PowerVia 反面供电网络(BSPDN)的制作工艺,这两项中心技能成为 PPA 优势的中心支撑。
在选用规范单元布局进行比照时,18A 工艺的高功能(HP)库单元高度从 240CH 降至 180CH,高密度(HD)库从 210CH 减缩至 160CH,笔直尺度均匀减缩约 25%,这意味着晶体管密度与面积功率的明显提高。
PowerVia 技能经过将供电线路转移至芯片反面,释放了正面信号布线空间,合作优化的栅极、源漏极及触摸结构,提高了单元集成密度与均质性。这些技能改善使得 18A 制程在单位面积功能与能效体现上获得打破,为先进芯片规划供给支撑。
量产方面,英特尔方案本年晚些时刻发动 Panther Lake 处理器的量产,而数据中心芯片 Clearwater Forest 估计 2026 年头量产;首款依据 18A 工艺的第三方芯片规划估计 2025 年中期完结流片验证。
苹果、英伟达、英特尔、Alphawave Semi 工程师一起署名了这篇关于 18A 制程 PAM-4 的研讨论文。严格来说,这并不能证明两家公司将引进 18A 工艺,但至少显示出技能验证的意向。
英特尔高档副总裁、英特尔代工部分负责人 Kevin O'Buckley 在本月初举办的英特尔 Vision 2025 活动上宣告,依据已向客户交给的硬件,英特尔代工现在最为先进的 Intel 18A 逻辑制程已进入危险试产(IT之家注:Risk Production)阶段。
这意味着 Intel 18A 现已技能冻住,客户在验证中对该制程的体现感到满意。英特尔的下一步是完结 Intel 18A 的产能爬坡,保证在这一节点上一起满意对技能和规模化的需求,并在本年下半年完结终究量产。
相关阅览:
《英特尔 Nova Lake 定档 2026 年,18A 估计年末进入大批量出产阶段》
《英特尔 CEO 陈立武:前期 Intel 18A 制程外部客户项目规划行将于本年年中交给晶圆厂》
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